La lotta incessante per la Legge di Moore ha spinto ASML a creare il TWINSCAN EXE:5200, sigla dietro cui si cela un prodotto esagerato, in tutti i sensi. Pesa 150.000 kg, l’equivalente di 25 elefanti, per fabbricarlo sono serviti 6 mesi e 250 ingegneri ad alta specializzazione e per spedirlo sono serviti 13 container e 250 casse. Ma soprattutto, il costo: ben 350 milioni di euro per un macchinari che, secondo il CEO Peter Weennink, sarà di vitale importanza per i microchip del futuro: per i chip AI serviranno “enormi quantità di potenza di calcolo e archiviazione dei dati, penso che senza ASML, senza la nostra tecnologia, ciò non accadrà“.
TWINSCAN EXE:5200 è l’ennesimo traguardo ingegneristico di ASML
Per molti potrà essere un nome mai sentito prima, ma ASML è un orgoglio europeo e più nello specifico dei Paesi Bassi, una compagnia che vale oltre 280 miliardi e dal cui lavoro dipende l’evoluzione del futuro della tecnologia. Il TWINSCAN EXE:5200 è a tutti gli effetti il primissimo macchinario litografico EUV (Extreme Ultraviolet Litography) che utilizzala la tecnologia High-NA; in termini economici, nel 2018 furono lanciati i primi macchinari Low-NA attorno ai 170 milioni con apertura 0,33 NA, mentre questo nuovo modello si spinge fino a 0,55 NA.
“Rispetto a 0.33 NA, il sistema 0.55 NA consente un aumento di quasi 3 volte nella densità dei transistor“, afferma ASML. Con NA viene indicata l’apertura numerica, cioè la capacità di un sistema ottico di raccogliere e focalizzare la luce proveniente da una sorgente luminosa. È un parametro fondamentale perché da esso dipende la qualità della stampa dei microchip per risoluzione e dettaglio: più alta è l’apertura numerica, più piccoli possono essere i dettagli riprodotti.
TWINSCAN EXE:5200 è in grado di stampare oltre 200 wafer ogni ora ma soprattutto ha le caratteristiche necessarie per poter stampare a 2 nm e oltre. Utilizza la tecnica del doppio patterning, che consente di ottenere una risoluzione più elevata: anziché fare una singola esposizione, il circuito da stampare viene stampato utilizzando due passaggi di esposizione distinti, raggiungendo una maggiore densità e una migliore definizione pur riducendo la complessità di stampa ergo i costi di produzione.
Acquistato da Intel nel 2018, è stato spedito nell’impianto di Oregon nel 2023 e inizierà a produrre da fine 2025. Le dimensioni del macchinario sono a dir poco colossali: è alto come un edificio di 3 piani, al punto che Intel si è vista costretta a costruire un’espansione dell’impianto solamente per poterlo ospitare. ASML è l’unica società in grado di produrre questi macchinari, e ha dichiarato che dal 2027-2018 riuscirà a produrne 20 all’anno.
Nel frattempo, la collaborazione con Intel potrebbe dare un vantaggio al chipmaker statunitense rispetto alle dirette rivali TSMC e Samsung. Avendolo ricevuta per prima, potrà partecipare alla creazione di quelli che diverranno gli standard per la stampa litografia High-NA, in vista di quelli che saranno i primi chip sotto i 2 nm in arrivo fra 2025 e 2026.
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